Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/1942/41378
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.advisorGENOE, Jan
dc.contributor.advisorCUPPENS, Tim
dc.contributor.authorSleypen, Tom
dc.date.accessioned2023-09-21T07:52:18Z-
dc.date.available2023-09-21T07:52:18Z-
dc.date.issued2023
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/1942/41378-
dc.description.abstractDe wereldwijde groei van technologieën vereist snellere en nauwkeurigere elektronische producten en diensten. Hoe sneller de producten worden, hoe gevoeliger ze zijn voor storingen. Om deze reden is elektromagnetische compatibiliteit (EMC) een van de grootste uitdagingen. De far-field test in de EMC-kamer is verplicht vooraleer het product kan worden goedgekeurd voor productie. Om het onderzoek te starten, werd een Printed Circuit Board (PCB) ontworpen om deze correlatie te testen met optimale en foutieve ontwerptechnieken. Voorbeelden van foutieve benaderingen zijn: het plaatsen van ontkoppelingscondensatoren verder weg van de bijhorende Integrated Circuit (IC) of het blokkeren van het retourpad van communicatielijnen zoals Inter-Integrated Circuit (I²C). In de EMC-kamer is, per ontwerptechniek, een far-field test uitgevoerd. Dit resultaat is vergeleken met de near-field test op de EMScanner. Hierbij geeft de EMScanner een extra EMC-frequentierespons per specifiek onderdeel op de PCB. De bevindingen van dit onderzoek tonen een correlatie aan tussen far-field en near-field stralingsemissies. Far-field straling geeft een duidelijk stralingsbeeld van de PCB voor zowel de optimale als de foutieve ontwerptechnieken. Near-field straling geeft eveneens een duidelijk stralingsbeeld, maar biedt daarentegen een uitgebreidere lokalisatie van de stralingsbron voor beide ontwerptechnieken en vergemakkelijkt daardoor het debuggingproces.
dc.format.mimetypeApplication/pdf
dc.languagenl
dc.publisherUHasselt
dc.titleCorrelation between the measured far-field and near-field radiated patterns for specific designs
dc.typeTheses and Dissertations
local.bibliographicCitation.jcatT2
dc.description.notesmaster in de industriële wetenschappen: elektronica-ICT
local.type.specifiedMaster thesis
item.accessRightsOpen Access-
item.fullcitationSleypen, Tom (2023) Correlation between the measured far-field and near-field radiated patterns for specific designs.-
item.fulltextWith Fulltext-
item.contributorSleypen, Tom-
Appears in Collections:Master theses
Files in This Item:
File Description SizeFormat 
0b62d857-1d61-4ffd-9dac-a4d5a52aa978.pdf21.22 MBAdobe PDFView/Open
b269c220-959c-4d00-afd3-8d0067c17006.pdf920.98 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record

Google ScholarTM

Check


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.